紫外臭氧清洗機應用領域：

■ 在進行薄膜沉積之前優(yōu)良行基片清洗。清除浮渣和穩(wěn)定化處理光刻膠。超高真空度密封。

■ 清洗硅芯片，透鏡，反光鏡，太陽能面板，冷軋鋼，慣性引導零件和 GaAs 芯片

■ 清潔焊劑，混合電路以及平板 LCD 顯示器

■ 蝕刻特氟隆，氟橡膠以及其它有機材料

■ 增強GaAs 和 Si 氧化物鈍化表面

■ 增強玻璃的除氣作用

■ 基片藍膜去除

■ 增強塑料表面的鍍膜的粘附性

■ 基片終測后墨跡清楚

■ 去除光刻膠

■ 平板顯示器/液晶顯示器

■ 去除光刻機臺上的光刻膠殘留物

■ 在電路板封裝和打片之前清洗）

■ 光纖

■ 增強表面親水特性

■ 為生物科學應用做清洗和消毒

■ 光學透鏡

■ 其它應用

紫外臭氧清洗機產品特點

觸屏控制 ，適合實驗室用 ，操作方便

304 不銹鋼機身

密封圈采用氟膠密封 ，提高腔室的密閉性

設備占地面積小 ，可放于桌面或手套箱

臭氧排風功能 ，風速可調（ 80mm 接口 ，特殊要求可定制）

技術參數(shù)

面積：254mm*254mm

波長：185nm+254nm

燈管：一體式柵格型低壓汞蒸汽排放燈

照射高度：基臺距燈管·20m-100mm 可調

照射強度：80mw/cm2(平臺位于最高處)

機器材質：304不銹鋼

排風功能自帶臭氧排風系統(tǒng) ，可調節(jié)風速

電源輸入：220VAC ，單相， 550W

燈管：250W ，壽命  8000 小時

清洗時間：0-999 分鐘可設定

安全防護功能：當蓋子打開時 ，燈管自動熄滅

人機界面：4.3 寸工業(yè)全彩觸屏人機界面

外形尺寸：315mm(W)*528mm(D)*429mm(H)

本文展示只是其中一種型號，多種機型可選，6寸、12寸以及更大尺寸需求可咨詢。